Influence des paramètres de dépôt sur les propriétés des couches minces d’oxydes métalliques.

Abstract

Résumé : La maitrise des conditions de dépôt des couches minces est très importante, en effet ces conditions déterminent en grande partie les propriétés structurales, optiques et électriques des couches élaborées. Dans plusieurs travaux de recherche, on a observé une orientation préférentielle dans un plan hkl défini, cette orientation a été expliquée par l’énergie de surface d’interaction minimale. Un changement de cette orientation peut être observé, si on augmente la température ou la molarité, on peut même observer un changement de la phase cristalline. Dans ce travail, et après revue de plusieurs travaux nous avons tenté d’expliquer l’effet des paramètres de dépôt sur les propriétés structurales des oxydes métalliques en couches minces, ce que nous avons conclu est le suivant : 1. L’orientation préférentielle est toujours favorisée en fonction de la température de substrat, ce qui peut être expliqué par une spécifique interaction des nucléons avec la surface des substrats. 2. L’orientation préférentielle est plus prononcée pour les petites concentrations molaires, en effet à des concentrations plus élevées, le taux de croissance ralentit. 3. Le choix du substrat influence aussi la qualité cristalline des couches minces déposées. Mots clés : couches minces, spray pyrolysis, oxyde d’indium, oxyde de vanadium, oxyde de molybdène. ----------------------------------------------Abstract The control of the deposition conditions of thin films is very important, in fact, these conditions largely determine the structural, optical and electrical films developed.

In several research projects, there was a preferential orientation in a plane hkl defined; this orientation was explained by the surface energy of minimal interaction.

A change of this orientation can be observed if the temperature or molarities are increased, one can even observe a change in the crystalline phase.

In this work and after review of several studies we tried to explain the effect of deposition parameters on the structural properties of metal oxides in thin films, we concluded as follows:

1. The preferred orientation is always favored depending on the substrate temperature, which can be explained by a specific interaction with the surface of the nucleons substrates. 2. The preferred orientation is more pronounced for small molar concentrations, in effect at higher concentrations, the rate of growth slows. 3. The choice of substrate also affects the crystalline quality of the deposited thin films. Keywords : thin films, spray pyrolysis, indium oxyde, vanadium oxide, molybdenum oxyde.